为提高源搅拌混响室的性能,对固定散射体提高源搅拌混响室场均匀性的情况进行了研究。首先根据谐振和模式搅拌理论对固定散射体的作用进行了理论分析,然后通过实测结果对基于复杂结构电磁场全波计算软件(FEKO)的仿真方法有效性进行了验证,最后对3种相同尺寸、不同类型混响室(传统的机械搅拌混响室、源搅拌混响室、加入固定散射体的源搅拌混响室)的场均匀性进行了仿真。结果表明:除个别频点外,混响室在单独源搅拌方式下的场均匀性要低于机械搅拌的,而在源搅拌混响室中加入3组固定散射体(搅拌器)后,其场均匀性指标普遍改善,性能与机械搅拌基本相当。由此可见,作为提高混响室性能的一种手段,固定散射体的加入能够改善源搅拌混响室的场均匀性,而在此基础上的复合搅拌方式则有可能产生性能更好的混响室方案。 高电压技术2014,40(3)如图2所示。首先，该模型沿3个坐标轴方向放置了3组固定的散射体(搅拌器)，各组散射体分别包含等间隔分布的3、4、混响室性能的研究-电动折弯机数控滚圆机弯管机张家港数控弯管机滚弧机5块金属板(0.75m×0.75m)。除了与各散射体的轴线保持45°的夹角之外，每组散射体中的各金属板在围绕散射体轴线旋转时候的角度会分别相差120°、90°、72°。另外，模型中天线(对数周期天线)源搅拌区域是个平面，其X=0.55m，沿Y和Z轴方向的尺寸分别为0.75m和1.2m。如果按照天线每一步都沿Y(或Z)轴方向运动0.15m的方式来进行源搅拌，那么1个搅拌周期中针对某个点的测试结果序列将包含54项。除此之外，源天线在相邻位置上的极化和姿态参数也会在搅拌过程中变化，即极化角、方位角和俯仰角每次分别变化90°、90°、60°。最后，模型中的工作区域沿X、Y、Z轴方向的尺寸分别为0.3、0.5、0.5m。在1个完整的源搅拌周期中，该区域8个顶点位置处的电场强度矢量序列将被记录下来进行场均匀度的计算和对比分析。3仿真结果分析如上所述，对加入3组固定散射体的源搅拌混响室而言，其最低可用频率(l)可根据其壳体尺寸进行估算。 本文由全自动弯管机公司网站网站采集转载中国知网整理! http://www.wanguanji158.com 首先，对于长宽高分别为a、b、c的空金属壳体(3.7m、2.8m、2.3m)而言，其最低模式谐振频率为果按照最低谐振频率的6倍来估算混响室的LUF(用符号fLUF表示)，则fLUF≈6f110≈400MHz。因此，随后的仿真计算将在频率f为400MHz(即fLUF)至1200MHz(3fLUF)的频率范围内展开，即共计20个频点将按对数均匀分布在上述频率范围内。另外，在1个完整的搅拌周期中，根据对工作区域8个顶点位置各自的电场强度矢量(包含3个分量)进行仿真计算可得到24个标量的结果序列，其中第n(n=1，2，…，8)个顶点混响室性能的研究-电动折弯机数控滚圆机弯管机张家港数控弯管机滚弧机 本文由全自动弯管机公司网站网站采集转载中国知网整理! http://www.wanguanji158.com